415405
别名:
Decamethylmanganocene
1 of 10
Sigma-Aldrich
317632
2-甲基环戊二烯三羰基锰
225487
二羰基环戊二烯基铁二聚物
245267
羰基锰 (0)
288055
三羰基环戊二烯锰(I)
710490
双(异丙基环戊二烯)锰
N7524
双(环戊二烯)镍(II)
753424
双（三氟甲磺酰亚胺）镁
341622
五羰基溴化锰(I)
179728
三乙基硼氢化锂® 溶液
283657
乙酰丙酮镍(II)
solid
core: manganese
230 °C (dec.) (lit.)
[Mn].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]2[C](C)[C](C)[C](C)[C]2C
1S/2C10H15.Mn/c2*1-6-7(2)9(4)10(5)8(6)3;/h2*1-5H3;
ALEXWXWETMUIKL-UHFFFAOYSA-N
11 - Combustible Solids
WGK 3
Not applicable
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
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近十年来出现了原子层沉积（ALD）技术以满足各种需求，包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.
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