Typically, a volatile Ti compound such as Titanium(IV) isopropoxide (TTIP), TiCl4, Titanium alkoxides, Ti(acac)4, etc., can be used as the precursor for depositing thin films of TiO2 using a PECVD system. It's important to note that different precursors have different boiling points and may result in different surface structures and morphologies.
Przejdź do
454516
Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane
97%
Synonim(y):
1,1,1,5,5,5-Hexamethyl-3,3-bis[(trimethylsilyl)oxy]trisiloxane, Tetrakis(trimethylsilyl) silicate
Zaloguj się, aby wyświetlić ceny organizacyjne i kontraktowe.
Wybierz wielkość
Zmień widok
| Do Państwa/SKU | Dostępność | Cena netto |
|---|---|---|
5 mL | Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności | 328,00 zł |
Informacje o tej pozycji
Wzór liniowy:
[(CH3)3SiO]4Si
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
384.84
NACRES:
NA.22
PubChem Substance ID:
UNSPSC Code:
12352103
EC Number:
222-613-4
MDL number:
328,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomócQuality Segment
assay
97%
refractive index
n
bp
103-106 °C/2 mmHg (lit.)
density
0.87 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C
InChI
1S/C12H36O4Si5/c1-17(2,3)13-21(14-18(4,5)6,15-19(7,8)9)16-20(10,11)12/h1-12H3
InChI key
VNRWTCZXQWOWIG-UHFFFAOYSA-N
Application
Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS) is an organosilicon compound used as a precursor to prepare nanostructured organosilicon polymer films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at atmospheric pressure. TTMS along with cyclohexane can also be used to synthesize low dielectric constant SiCOH films by PECVD method.
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
1 of 1
Ta pozycja | |||
|---|---|---|---|
| description 97% | description 97% | description 99% | description 97% |
| assay 97% | assay 97% | assay 99% | assay 97% |
| density 0.87 g/mL at 25 °C (lit.) | density 0.827 g/mL at 25 °C (lit.) | density 0.873 g/mL at 25 °C (lit.) | density 0.877 g/mL at 25 °C (lit.) |
| Quality Level 100 | Quality Level 100 | Quality Level 100 | Quality Level 100 |
| refractive index n | refractive index n | refractive index n | refractive index n |
| bp 103-106 °C/2 mmHg (lit.) | bp 55-56 °C/2 mmHg (lit.) | bp 168-170 °C (lit.) | bp 120 °C (lit.) |
signalword
Warning
hcodes
Hazard Classifications
Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
target_organs
Respiratory system
Klasa składowania
10 - Combustible liquids
wgk
WGK 3
flash_point_f
168.8 °F - closed cup
flash_point_c
76 °C - closed cup
ppe
Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
-
What precursors can be suggested for compatibility with our PECVD system in order to deposit thin films of TiO2?
1 answer-
Helpful?
-