Przejdź do
41572
Dimethyl selenide
≥99.0% (GC)
Synonim(y):
Methyl selenide
Zaloguj się, aby wyświetlić ceny organizacyjne i kontraktowe.
Wybierz wielkość
Zmień widok
| Do Państwa/SKU | Dostępność | Cena netto |
|---|---|---|
1 mL | Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności | 1130,00 zł |
Informacje o tej pozycji
Wzór liniowy:
(CH3)2Se
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
109.03
UNSPSC Code:
12352103
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
EC Number:
209-807-4
Beilstein/REAXYS Number:
1696848
MDL number:
1130,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomócQuality Segment
assay
≥99.0% (GC)
form
liquid
density
1.408 g/mL at 20 °C (lit.)
storage temp.
2-8°C
SMILES string
C[Se]C
InChI
1S/C2H6Se/c1-3-2/h1-2H3
InChI key
RVIXKDRPFPUUOO-UHFFFAOYSA-N
General description
Atomic number of base material: 34 Selenium
Dimethyl selenide is a high-purity (≥99.0% by GC), volatile organoselenium compound in liquid form, primarily used as a catalyst and a precursor for solution and vapor deposition processes. Its excellent volatility and reactivity make it suitable for thin-film fabrication techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD), particularly in the synthesis of semiconductor and optoelectronic materials.
Application
Dimethyl selenide can be used as:
- A precursor to prepare high-quality nanometric metal selenides, which are important for applications in thermoelectric, catalysis, and optoelectronics.
- A key reagent in the synthesis of tin(IV) methylselenolate complex, which is used as a precursor for SnSe and as a conductive interparticle "glue" for colloidal nanocrystals.
- A precursor to synthesize tin selenide (SnSe), which is used as a semiconductor with thermoelectric and electronic applications.
Features and Benefits
- High Purity (≥99.0% GC): Ensures consistency and reliability in sensitive chemical syntheses and deposition processes
- Volatile Liquid: Low boiling point and high vapor pressure make it ideal for vapor-phase processes like CVD and ALD
- Easy Handling
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
1 of 1
Ta pozycja | |||
|---|---|---|---|
| assay ≥99.0% (GC) | assay ≥99.99% trace metals basis | assay ≥98.5%, ≥99.999% trace metals basis | assay 99.998% trace metals basis |
| form liquid | form - | form - | form liquid |
| density 1.408 g/mL at 20 °C (lit.) | density 0.648 g/mL at 25 °C (lit.) | density 0.986 g/mL at 25 °C (lit.) | density 1.483 g/mL at 25 °C (lit.) |
| storage temp. 2-8°C | storage temp. 2-8°C | storage temp. 2-8°C | storage temp. - |
| Quality Level 100 | Quality Level 100 | Quality Level 100 | Quality Level 100 |
signalword
Danger
wgk
WGK 3
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves
Hazard Classifications
Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Flam. Liq. 2 - STOT RE 2
Klasa składowania
3 - Flammable liquids
flash_point_f
<68.0 °F - closed cup
flash_point_c
< 20 °C - closed cup
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.