Przejdź do zawartości
Merck

Przejdź do

403393

Nickel(II) bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate)

97%

Synonim(y):

Ni(TMHD)2

Zaloguj się, aby wyświetlić ceny organizacyjne i kontraktowe.

Wybierz wielkość

Zmień widok
Rozmiar/SKUDostępnośćCena netto
1 g
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
422,00 zł

Informacje o tej pozycji

Wzór liniowy:
Ni(OCC(CH3)3CHCOC(CH3)3)2
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
425.23
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
UNSPSC Code:
12352103
MDL number:

422,00 zł


Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności

​
Złóż zamówienie na produkt na zamówienie
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomóc


Quality Segment

assay

97%

form

solid

reaction suitability

core: nickel

mp

219-223 °C (lit.)

SMILES string

CC(C)(C)C(=O)\C=C(\O[Ni]O\C(=C\C(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C

InChI

1S/2C11H20O2.Ni/c2*1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h2*7,12H,1-6H3;/q;;+2/p-2/b2*8-7+;

InChI key

PIIJAZNTPALBJL-ORWWTJHYSA-L

General description

Nickel(II) bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate) [Ni(TMHD)₂] is a green crystalline solid that exhibits moderate volatility and good thermal stability, making it effective for use in vapor-phase processes. The bulky TMHD ligands enhance its volatility while maintaining thermal stability, making it suitable for chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD). These properties enable the controlled deposition of thin, uniform layers of nickel or nickel oxide on complex surfaces. Additionally, its solubility in organic solvents supports solution-based processing techniques. Its well-defined decomposition behaviour ensures clean film formation with minimal impurities, which is essential for electronic, catalytic, and energy-storage applications.

Application

Nickel(II) bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate) (Ni(TMHD)₂) can be used as:
  • A precursor in the synthesis of nickel thin films via atomic layer deposition (ALD), which are used in solar cells, microelectronics and catalysis applications.
  • Metal precursor to for preparation of Ni-based catalysts via Atomic Layer Deposition.
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Porównaj podobne pozycje

Wyświetl pełne porównanie

Pokaż różnice

1 of 1

Ta pozycja
946915345083468223
description

97%

description

≥99.9% trace metals basis

description

99%

description

-

assay

97%

assay

(titration, chelatometric), ≥99.9% trace metals basis

assay

99%

assay

-

form

solid

form

powder, solid

form

solid

form

solid

mp

219-223 °C (lit.)

mp

219-223 °C (lit.), 223-225 °C

mp

198 °C (dec.) (lit.)

mp

228-233 °C (lit.)

reaction suitability

core: nickel

reaction suitability

-

reaction suitability

core: copper

reaction suitability

core: chromium

Quality Level

100

Quality Level

200

Quality Level

200

Quality Level

100


Piktogramy

Health hazardExclamation mark

Słowo ostrzegawcze

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Carc. 1B

Klasa składowania

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

Co się dzieje?

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

PPE (środki ochrony indywidualnej)

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Wykazy regulacyjne

Wykazy regulacyjne dotyczą głównie produktów chemicznych. Można w nich podawać ograniczoną liczbę informacji na temat produktów niechemicznych. Brak wpisu oznacza, że żaden ze składników nie znajduje się w wykazie. Użytkownik odpowiada za zagwarantowanie bezpiecznego i zgodnego z prawem stosowania produktu.

14481-08-4

CAS No.


Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

It looks like we've run into a problem, but you can still download Certificates of Analysis from our Dokumenty section.

Proszę o kontakt, jeśli potrzebna jest pomoc Obsługa Klienta

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów



Questions

Reviews

No rating value

Active Filters