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545007

Sigma-Aldrich

Tantalum

powder, 99.99% trace metals basis

Sinónimos:

Ta

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
Ta
Número de CAS:
7440-25-7
Peso molecular:
180.95
Número MDL:
MFCD00011252
Código UNSPSC:
12141741
ID de la sustancia en PubChem:
24878801
NACRES:
NA.23

presión de vapor

<0.01 mmHg ( 537.2 °C)

Nivel de calidad

100

Ensayo

99.99% trace metals basis

Formulario

powder

temp. de autoignición

572 °F

resistividad

13.5 μΩ-cm, 20°C

bp

5425 °C (lit.)

mp

2996 °C (lit.)

densidad

16.69 g/cm3 (lit.)

cadena SMILES

[Ta]

InChI

1S/Ta

Clave InChI

GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N

Aplicación

Tantalum powder, a semiconducting material, is used as a photocatalyst and shows high efficiency in the solar splitting of water. Its biocompatibility makes it useful in the development of medical devices and implants.

Pictogramas

Flame
GHS02

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H228

Clasificaciones de peligro

Flam. Sol. 1

Código de clase de almacenamiento

4.1B - Flammable solid hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

nwg

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

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Tantalum-based semiconductors for solar water splitting
Zhang P, et al.
Chemical Society Reviews, 43(13), 4395-4422 (2014)
Additively manufactured porous tantalum implants
Wauthle R, et al.
Acta Biomaterialia, 14(13), 217-225 (2015)
Yongyuan Guo et al.
International journal of molecular medicine, 31(3), 689-697 (2013-01-23)
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S Nag et al.
Journal of the mechanical behavior of biomedical materials, 16, 21-28 (2012-11-10)
Microstructure and mechanical properties of laser deposited complex quaternary Ti-34Nb-7Zr-7Ta (all wt%), an orthopedic load-bearing implant alloy, has been investigated in detail in both as-deposited as well as heat-treated (β-solutionized and quenched) conditions. The difference in stress-strain behavior of this
Thomas Larzon et al.
Vascular, 21(2), 87-91 (2013-03-20)
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