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Tantalum
powder, −325 mesh, 99.9% trace metals basis
Synonyme(s) :
Ta
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About This Item
Produits recommandés
Pression de vapeur
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Niveau de qualité
Pureté
99.9% trace metals basis
Forme
powder
Température d'inflammation spontanée
572 °F
Résistivité
13.5 μΩ-cm, 20°C
Taille des particules
−325 mesh
Point d'ébullition
5425 °C (lit.)
Pf
2996 °C (lit.)
Densité
16.69 g/cm3 (lit.)
Chaîne SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
Clé InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Application
Employed in the synthesis of metal-rich layered tellurides, TaNi2Te2 and TaCo2Te2, which possess ideal characteristics for photovoltaic applications, for surface scanning studies, and which may give clean and atomically flat surfaces. Starting material for new edge-bridged octahedral M6 cluster compounds such as CsErTa6Cl18, for which electron and stability studies were performed.
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Conseils de prudence
Classification des risques
Flam. Sol. 1
Code de la classe de stockage
4.1B - Flammable solid hazardous materials
Classe de danger pour l'eau (WGK)
nwg
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
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Tantalum hydroxide exhibits the ability for the removal of phosphate from aqueous solution. The kinetic study, adsorption isotherm, thermodynamic study, desorption, and foreign anions effect were examined in batch experiments. The kinetic process was very well described by a pseudo-second-order
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