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333891

Sigma-Aldrich

Silane

≥99.998%, electronic grade

Sinonimo/i:

Silicon tetrahydride

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About This Item

Formula condensata:
SiH4
Numero CAS:
Peso molecolare:
32.12
Numero CE:
Numero MDL:
Codice UNSPSC:
12352300
ID PubChem:

Grado

electronic grade

Densità del vapore

1.1 (vs air)

Saggio

≥99.998%

Stato

gas

Resistività

>1000 Ω-cm

Impurezze

<1 ppm Carbon dioxide (CO2)
<1 ppm Carbon monoxide (CO)
<1 ppm Chlorosilanes
<1 ppm THC
<1 ppm Trisilane (Si3H8)
<1 ppm Water (H2O)
<100 ppm Hydrogen (H2)
<2 ppm Nitrogen (N2)
<2 ppm Siloxanes
<5 ppm Disilane (Si2H6)

P. ebollizione

−112 °C (lit.)

Punto di fusione

−185 °C (lit.)

Temp. transizione

critical temperature −3.4 °C

Densità

1.114 g/mL at 25 °C (lit.)

Stringa SMILE

[SiH4]

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Applicazioni

Silane is used in the deposition of amorphous silicon, epitaxial silicon and silicon based dielectrics. Polycrystalline films can be deposited on silicon wafers and glass substrates via remote plasma chemical vapor deposition (RPCVD) using a SiH4-SiF2-H2 gas mixture. Silane is used widely as a dopant in the formation of III-IV semiconductor materials.

Prodotti consigliati

Stainless steel regulators Z527416 or Z527424 are recommended.

Pittogrammi

FlameGas cylinder

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

Classi di pericolo

Flam. Gas 1A - Press. Gas Compr. Gas

Codice della classe di stoccaggio

2A - Gases

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 1

Punto d’infiammabilità (°F)

Not applicable

Punto d’infiammabilità (°C)

Not applicable

Dispositivi di protezione individuale

Eyeshields, Faceshields, Gloves, multi-purpose combination respirator cartridge (US)


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Thin Solid Films, 288, 147-147 (1996)
Structural and electrical properties of low temperature polycrystalline silicon deposited using SiF4?SiH4?H2
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