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Merck

303518

Sigma-Aldrich

Tantalum(V) oxide

99% trace metals basis

Sinónimos:

Tantalum pentoxide

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About This Item

Fórmula lineal:
Ta2O5
Número de CAS:
Peso molecular:
441.89
EC Number:
MDL number:
UNSPSC Code:
12352303
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

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Quality Level

assay

99% trace metals basis

form

powder

reaction suitability

reagent type: catalyst
core: tantalum

density

8.2 g/mL at 25 °C (lit.)

application(s)

battery manufacturing

SMILES string

O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O

InChI

1S/5O.2Ta

InChI key

PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N

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Este artículo
282863808083332461
Graphite flakes, 99% carbon basis, -325 mesh particle size (≥99%), natural

808067

Graphite

Graphite powder, <20 μm, synthetic

282863

Graphite

Graphite flakes, ≥98% carbon basis, -325 mesh particle size (50- 70%), natural

808083

Graphite

Graphite flakes

332461

Graphite

grade

natural

grade

-

grade

natural

grade

-

particle size

-325 mesh (<44μ, ≥99%)

particle size

<20 μm

particle size

-325 mesh (44μ, 50-70%)

particle size

+100 mesh (≥75% min)

assay

99% carbon basis

assay

-

assay

≥98% carbon basis

assay

-

mp

3652-3697 °C (lit.)

mp

3652-3697 °C (lit.)

mp

3652-3697 °C (lit.)

mp

3652-3697 °C (lit.)

Quality Level

100

Quality Level

200

Quality Level

100

Quality Level

-

General description

Tantalum pentoxide is dielectric in nature making it useful for making capacitors in the electronics industry.

Application

Tantalum oxide is intermixed with silicon in gate dielectric structures.[1] It may be used to synthesize hexagonally packed mesoporous tantalum oxide molecular sieves.[2]Ion-beam sputter deposition of tantalum oxide films was investigated for possible optical coating applications.[3]It may be used in making optical glass for lenses and in electronic circuits.

Storage Class

11 - Combustible Solids

wgk_germany

nwg

flash_point_f

Not applicable

flash_point_c

Not applicable

ppe

Eyeshields, Gloves, type N95 (US)


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Effects of oxygen content on the optical properties of tantalum oxide films deposited by ion-beam sputtering.
H Demiryont et al.
Applied optics, 24(4), 490-490 (1985-02-15)
Synthesis and characterization of hexagonally packed mesoporous tantalum oxide molecular sieves.
Antonelli DM and Ying JY
Chemistry of Materials, 8(4), 874-881 (1996)
Intermixing at the tantalum oxide/silicon interface in gate dielectric structures.
Alers GB, et al.
Applied Physics Letters, 73(11), 1517-1519 (1998)

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