494100
Silicon tetrabromide
99.995% trace metals basis
Synonyme(s) :
Tetrabromosilane
About This Item
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Densité de vapeur
2.8 (vs air)
Niveau de qualité
Pureté
99.995% trace metals basis
Forme
liquid
Pertinence de la réaction
core: silicon
Point d'ébullition
153 °C (lit.)
Pf
5 °C (lit.)
Densité
2.8 g/mL at 25 °C (lit.)
Chaîne SMILES
Br[Si](Br)(Br)Br
InChI
1S/Br4Si/c1-5(2,3)4
Clé InChI
AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N
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Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Classification des risques
Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B
Code de la classe de stockage
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 3
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
Équipement de protection individuelle
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Articles
atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer
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