Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Documents

333891

Sigma-Aldrich

Silane

≥99.998%, electronic grade

Synonyme(s) :

Silicon tetrahydride

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
SiH4
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
32.12
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352300
ID de substance PubChem :

Qualité

electronic grade

Densité de vapeur

1.1 (vs air)

Pureté

≥99.998%

Forme

gas

Résistivité

>1000 Ω-cm

Impuretés

<1 ppm Carbon dioxide (CO2)
<1 ppm Carbon monoxide (CO)
<1 ppm Chlorosilanes
<1 ppm THC
<1 ppm Trisilane (Si3H8)
<1 ppm Water (H2O)
<100 ppm Hydrogen (H2)
<2 ppm Nitrogen (N2)
<2 ppm Siloxanes
<5 ppm Disilane (Si2H6)

Point d'ébullition

−112 °C (lit.)

Pf

−185 °C (lit.)

Température de transition

critical temperature −3.4 °C

Densité

1.114 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

[SiH4]

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Application

Silane is used in the deposition of amorphous silicon, epitaxial silicon and silicon based dielectrics. Polycrystalline films can be deposited on silicon wafers and glass substrates via remote plasma chemical vapor deposition (RPCVD) using a SiH4-SiF2-H2 gas mixture. Silane is used widely as a dopant in the formation of III-IV semiconductor materials.

Produits recommandés

Stainless steel regulators Z527416 or Z527424 are recommended.

Pictogrammes

FlameGas cylinder

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

Classification des risques

Flam. Gas 1A - Press. Gas Compr. Gas

Code de la classe de stockage

2A - Gases

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, multi-purpose combination respirator cartridge (US)


Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Hu, C. C.
Thin Solid Films, 288, 147-147 (1996)
Structural and electrical properties of low temperature polycrystalline silicon deposited using SiF4?SiH4?H2
Jin Jang
Thin Solid Films, 289, 227-227 (1996)
Quinn, L.J.
Thin Solid Films, 296, 7-7 (1997)

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique