NIST2133
Phosphorus implant in silicon depth profile standard
NIST® SRM® 2133
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About This Item
Código UNSPSC:
41116107
NACRES:
NA.24
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Productos recomendados
grado
certified reference material
Nivel de calidad
envase
pkg of each
fabricante / nombre comercial
NIST®
aplicaciones
semiconductor
Formato
matrix material
Descripción general
The SRM contains a single crystal silicon substrate measuring 1 cm × 1 cm, which is ion-implanted with the isotope 31P at a nominal energy of 100 keV.
SRM 2133_cert
SRM 2133_SDS
SRM 2133_cert
SRM 2133_SDS
Aplicación
The SRM is intended to calibrate the secondary ion response for minor and trace concentrations of phosphorus within a silicon matrix using the secondary ion mass spectrometry (SIMS) method.
Características y beneficios
- Available with certificate documenting NIST-certified retained dose of 31P atoms which is obtained through radiochemical neutron activation analysis (RNAA).
- The NIST certificate is provided with expiration certificate, storage, handling, use, and maintenance instructions.
Otras notas
Example analytes are listed below as a reference. Please download a current certificate at nist.gov/SRM for current analytes and certified values.
Phosphorus (31P)
Phosphorus (31P)
Información legal
NIST is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology
SRM is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology
Código de clase de almacenamiento
13 - Non Combustible Solids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 3
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
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Certificados de análisis (COA)
Lot/Batch Number
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