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Sigma-Aldrich

Trifluoromethanesulfonimide

≥95.0% (19F-NMR)

Sinónimos:

Bis(trifluoromethanesulfonyl)amine

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About This Item

Fórmula lineal:
(CF3SO2)2NH
Peso molecular:
281.15
Beilstein:
4754101
Número MDL:
MFCD00214154
Código UNSPSC:
12352100
ID de la sustancia en PubChem:
24870201
NACRES:
NA.22
Formulario:
solid
Ensayo:
≥95.0% (19F-NMR)

Nivel de calidad

200

Ensayo

≥95.0% (19F-NMR)

Formulario

solid

bp

90-91 °C (lit.)

mp

46-57 °C (lit.)

grupo funcional

fluoro

cadena SMILES

FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F

InChI

1S/C2HF6NO4S2/c3-1(4,5)14(10,11)9-15(12,13)2(6,7)8/h9H

Clave InChI

ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N

Categorías relacionadas

Descripción general

Trifluoromethanesulfonimide is a promising Bronsted acid catalyst and is superior to scandium triflate in catalytic action.

Aplicación

Trifluoromethanesulfonimide may be used as a catalyst for the preparation of 1-substituted-1H-1,2,3,4-tetrazoles.

Pictogramas

Skull and crossbonesCorrosion
GHS06,GHS05

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H301,H318,H412

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 3 Oral - Aquatic Chronic 3 - Eye Dam. 1

Código de clase de almacenamiento

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number
BCCM2431
BCCK0956
BCCH2371
MKCS0731
BCCD2542

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Practical Synthesis of (?)-a-Tocopherol. Trifluoromethanesulfonimide as an Extremely Active Br?nsted Acid Catalyst for the Condensation of Trimethylhydroquinone with Isophytol.
Ishihara K, et al.
Synlett, 11, 1045-1046 (1996)
Trifluoromethanesulfonimide catalysed synthesis of 1-substituted-1H-1, 2, 3, 4-tetrazoles using glycerol as green solvent at room temperature.
Wang H, et al.
J. Chem. Res. (M), 40(9), 570-572 (2016)
Youngbum Kim et al.
Nanoscale, 10(18), 8851-8858 (2018-05-02)
The exciton-dominated light emission of two-dimensional (2D) semiconductors is determined largely by the doping state and the formation of defects. Extensive studies have shown that chemical treatment critically modifies the doping state and defect state of chemical vapor deposition (CVD)-grown

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