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Merck

318272

Sigma-Aldrich

Xenon difluoride

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About This Item

Fórmula lineal:
XeF2
Número de CAS:
Peso molecular:
169.29
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352300
ID de la sustancia en PubChem:

presión de vapor

3.8 mmHg ( 25 °C)

mp

129 °C (lit.)

densidad

4.32 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

F[Xe]F

InChI

1S/F2Xe/c1-3-2

Clave InChI

IGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-N

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Aplicación

Very useful fluorination agent.

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 1 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Ox. Sol. 2 - Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

5.1B - Oxidizing hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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Fluorination with XeF(2).(1) 44. Effect of Geometry and Heteroatom on the Regioselectivity of Fluorine Introduction into an Aromatic Ring.
Marko Zupan et al.
The Journal of organic chemistry, 63(3), 878-880 (2001-10-24)
Ariela W Kaspi et al.
Inorganic chemistry, 47(1), 5-7 (2007-12-07)
Palladium(II) aryliodo complexes bearing chelating diphosphine ligands react with XeF2, giving iodoarene and rare palladium(II) difluoro complexes. The reaction is general with regard to the aryl group, with even C6F5-I undergoing facile reductive elimination from a Pd center.
Tsung Yi Chiang et al.
Journal of synchrotron radiation, 17(1), 69-74 (2009-12-24)
The synchrotron radiation (SR) stimulated etching of silicon elastomer polydimethylsiloxane (PDMS) using XeF(2) as an etching gas has been demonstrated. An etching system with differential pumps and two parabolic focusing mirrors was constructed to perform the etching. The PDMS was
Minseob Kim et al.
Nature chemistry, 2(9), 784-788 (2010-08-24)
The application of pressure, internal or external, transforms molecular solids into extended solids with more itinerant electrons to soften repulsive interatomic interactions in a tight space. Examples include insulator-to-metal transitions in O(2), Xe and I(2), as well as molecular-to-non-molecular transitions
Neil Vasdev et al.
Inorganic chemistry, 49(19), 8997-9004 (2010-08-31)
The existence of the trifluoroxenate(II) anion, XeF(3)(-), had been postulated in a prior NMR study of the exchange between fluoride ion and XeF(2) in CH(3)CN solution. The enthalpy of activation for this exchange, ΔH(⧧), has now been determined by use

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