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900756

Sigma-Aldrich

SLAP M

≥95%

Sinónimos:

2-((Trimethylsilyl)methoxy)ethan-1-amine

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
C6H17NOSi
Número de CAS:
2093935-94-3
Peso molecular:
147.29
Código UNSPSC:
12352200

Ensayo

≥95%

Formulario

liquid

temp. de almacenamiento

2-8°C

cadena SMILES

NCCOC[Si](C)(C)C

Aplicación

When used with aliphatic or aromatic aldehydes, this silicon amine protocol (SLAP) reagent enables the photomediated synthesis of thiomorpholines and thiazepanes. For photocatalytic cross-coupling with this SLAP Reagent, Ir[(ppy)2dtbbpy]PF6 (747769) is used with a recommended starting combination of Lewis acids Bi(OTf)3 (633305) and Cu(OTf)2 (283673) prior to subsequent substrate-specific optimization. This product was introduced in collaboration with the Bode Research Group and provides a tin-free alternative to SnAP (tin amine protocol) reagents and is well-suited for scale-up reactions.

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Descripción
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900406

SLAP N-Bn-3Me-Pip Reagent

900755

SLAP TA, 95%

900814

SLAP TM, ≥95%

900815

SLAP 5-TMS TM, ≥95%

Código de clase de almacenamiento

10 - Combustible liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

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Lot/Batch Number
MKCF9329
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Protocolos

SiLicon Amine Protocol (SLAP) Reagents

The expanding class of SLAP reagents provides access to saturated N-heterocycles and aliphatic aldehydes and ketones without additional reagents or the generation of toxic byproducts.

SiLicon Amine Protocol (SLAP) Reagents

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