651788
Negative resist developer I
About This Item
Productos recomendados
bp
129-138 °C (lit.)
densidad
0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
temp. de almacenamiento
2-8°C
Descripción general
Palabra de señalización
Danger
Frases de peligro
Consejos de prudencia
Clasificaciones de peligro
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Órganos de actuación
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
Código de clase de almacenamiento
3 - Flammable liquids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 2
Punto de inflamabilidad (°F)
78.8 °F - closed cup
Punto de inflamabilidad (°C)
26 °C - closed cup
Equipo de protección personal
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Protocolos
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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