The technical bulletin for negative photoresist procedures indicates that the developer corresponding to this product is suitable for use with the SU8-2 type of photoresist.
https://www.sigmaaldrich.com/deepweb/assets/sigmaaldrich/product/documents/345/019/al_techbull_al217.pdf
651788
Negative resist developer I
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About This Item
Code UNSPSC :
12352300
Nomenclature NACRES :
NA.23
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Description générale
Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Conseils de prudence
Classification des risques
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Organes cibles
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
Code de la classe de stockage
3 - Flammable liquids
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 2
Point d'éclair (°F)
78.8 °F - closed cup
Point d'éclair (°C)
26 °C - closed cup
Équipement de protection individuelle
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Protocoles
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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