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Sigma-Aldrich

Cyclohexyl methacrylate

≥97%, contains ~60 ppm monomethyl ether hydroquinone as inhibitor

Synonyme(s) :

Methacrylic acid cyclohexyl ester

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About This Item

Formule linéaire :
CH2=C(CH3)COOC6H11
Numéro CAS:
101-43-9
Poids moléculaire :
168.23
Numéro Beilstein :
2045235
Numéro CE :
202-943-5
Numéro MDL:
MFCD00014292
Code UNSPSC :
12162002
ID de substance PubChem :
24865610
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

≥97%

Forme

liquid

Contient

~60 ppm monomethyl ether hydroquinone as inhibitor

Indice de réfraction

n20/D 1.458 (lit.)

Point d'ébullition

68-70 °C/4 mmHg (lit.)

Densité

0.964 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1

InChI

1S/C10H16O2/c1-8(2)10(11)12-9-6-4-3-5-7-9/h9H,1,3-7H2,2H3

Clé InChI

OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N

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Description générale

Cyclohexyl methacrylate(CHMA) is an acrylate monomer with a high-refractive index, commonly used in ultraviolet (UV) curing processes due to its ability to rapidly polymerize under UV light exposure. UV-curable CHMA-based coatings, adhesives, and inks offer fast curing, excellent hardness, hydrophobicity, and high durability. It has good optical clarity, resulting in optical lenses with high transparency and minimal distortion. It can also be used as a crosslinking agent in copolymer systems for dental composites and tissue engineering to enhance the mechanical and thermal properties of the resulting materials.

Application

Cyclohexyl methacrylate can be used:



  • As a monomer to prepare poly(cyclohexyl methacrylate) (PCHMA) thin films for high-performance luminescent solar concentrators(LSCs). These LSCs can be used to fabricate high-quantum yield photovoltaic solar cells.
  • As a comonomer to prepare photo-patternable quantum dot-acrylate resins for fabricating light-emitting diodes with high color transparency.
  • As a monomer to synthesizesuperhydrophobic silica nanoparticle surfaces for various applications such as anti-corrosionsurfaces, drag reduction, and energy conservation.

Pictogrammes

Exclamation mark
GHS07

Mention d'avertissement

Warning

Mentions de danger

H315,H317,H319,H335

Classification des risques

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - Skin Sens. 1 - STOT SE 3

Organes cibles

Respiratory system

Code de la classe de stockage

10 - Combustible liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

181.4 °F

Point d'éclair (°C)

83 °C

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

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