Accéder au contenu
MilliporeSigma
Toutes les photos(2)

Documents

303518

Sigma-Aldrich

Tantalum(V) oxide

99% trace metals basis

Synonyme(s) :

Tantalum pentoxide

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
Ta2O5
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
441.89
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352303
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

99% trace metals basis

Forme

powder

Pertinence de la réaction

reagent type: catalyst
core: tantalum

Densité

8.2 g/mL at 25 °C (lit.)

Application(s)

battery manufacturing

Chaîne SMILES 

O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O

InChI

1S/5O.2Ta

Clé InChI

PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Tantalum pentoxide is dielectric in nature making it useful for making capacitors in the electronics industry.

Application

Tantalum oxide is intermixed with silicon in gate dielectric structures. It may be used to synthesize hexagonally packed mesoporous tantalum oxide molecular sieves.Ion-beam sputter deposition of tantalum oxide films was investigated for possible optical coating applications.It may be used in making optical glass for lenses and in electronic circuits.

Code de la classe de stockage

11 - Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

nwg

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Gloves, type N95 (US)


Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Effects of oxygen content on the optical properties of tantalum oxide films deposited by ion-beam sputtering.
H Demiryont et al.
Applied optics, 24(4), 490-490 (1985-02-15)
Synthesis and characterization of hexagonally packed mesoporous tantalum oxide molecular sieves.
Antonelli DM and Ying JY
Chemistry of Materials, 8(4), 874-881 (1996)
Intermixing at the tantalum oxide/silicon interface in gate dielectric structures.
Alers GB, et al.
Applied Physics Letters, 73(11), 1517-1519 (1998)

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique