Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(1)

Documentos

679356

Sigma-Aldrich

[3-(Diethylamino)propyl]trimethoxysilane

deposition grade, ≥97%

Sinónimos:

N,N-Diethyl-3-(trimethoxysilyl)propylamine

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(1)

About This Item

Fórmula lineal:
(C2H5)2N(CH2)3Si(OCH3)3
Número de CAS:
41051-80-3
Peso molecular:
235.40
EC Number:
255-192-0
MDL number:
MFCD00039882
UNSPSC Code:
12352103
PubChem Substance ID:
24885487

grade

deposition grade

assay

≥97%

form

liquid

refractive index

n20/D 1.423 (lit.)

bp

120 °C/20 mmHg (lit.)

density

0.95 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CCN(CC)CCC[Si](OC)(OC)OC

InChI

1S/C10H25NO3Si/c1-6-11(7-2)9-8-10-15(12-3,13-4)14-5/h6-10H2,1-5H3

InChI key

ZLDHYRXZZNDOKU-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

pictograms

CorrosionExclamation mark
GHS05,GHS07

signalword

Danger

Hazard Classifications

Eye Dam. 1 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

target_organs

Respiratory system

Storage Class

10 - Combustible liquids

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

212.0 °F - closed cup

flash_point_c

100 °C - closed cup

ppe

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Artículos

Deposition Grade Silanes for Sol-Gel Processes

Deposition Grade Silanes, fully characterized by chemical analysis and nuclear magnetic resonance (NMR) with greater than 98% purity, for Sol-Gel Processes.

Mesoporous Oxides and Their Applications to Hydrogen Storage

Mesoporous materials, such as aerogels, offer advantages for practical hydrogen storage. They have large surface areas, open porosity, small pore sizes, and the ability to coat the surface with one or more compounds.

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Green Synthesis of Nanomaterials

Silica's versatility spans various industries, including biomedical applications.

Ver todo

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico