773972
Yttrium sputtering target
diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.9% trace metals basis
Synonyme(s) :
Yttrium
About This Item
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Niveau de qualité
Pureté
99.9% trace metals basis
Forme
solid
Pertinence de la réaction
core: yttrium
Résistivité
57 μΩ-cm, 20°C
Diam. × épaisseur
2.00 in. × 0.25 in.
Point d'ébullition
3338 °C (lit.)
Pf
1522 °C (lit.)
Densité
4.469 g/mL at 25 °C (lit.)
Chaîne SMILES
[Y]
InChI
1S/Y
Clé InChI
VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N
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Application
Yttrium sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing thin films also find applications as thermal barrier and protective coatings, example in thermoelectric devices.
Code de la classe de stockage
11 - Combustible Solids
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 3
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
Certificats d'analyse (COA)
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