GF04828765
Tantalum
foil, 8mm disks, thickness 0.0075mm, 99.9%
Sinónimos:
Tantalum, TA000280, Ta
Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
About This Item
Fórmula empírica (notación de Hill):
Ta
Número de CAS:
Peso molecular:
180.95
MDL number:
UNSPSC Code:
12141741
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23
Productos recomendados
vapor pressure
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
assay
99.9%
form
foil
autoignition temp.
572 °F
manufacturer/tradename
Goodfellow 048-287-65
resistivity
13.5 μΩ-cm, 20°C
diam. × thickness
8 mm × 0.0075 mm
bp
5425 °C (lit.)
mp
2996 °C (lit.)
density
16.69 g/cm3 (lit.)
SMILES string
[Ta]
InChI
1S/Ta
InChI key
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
General description
For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.
Legal Information
Product of Goodfellow
Certificados de análisis (COA)
Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»
¿Ya tiene este producto?
Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.
Tantalum foil pegs.
E MAXWELL
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
Radmila Panajotovic et al.
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
Tantalum foil cuffs in peripheral nerve surgery.
E E CLIFFTON
Surgery, 23(3), 507-514 (1948-03-01)
T Y Hung et al.
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
Zhongli Cai et al.
The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly
Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.
Póngase en contacto con el Servicio técnico