730734
Trimethylgallium
packaged for use in deposition systems
Sinónimos:
Me3Ga, TMGa, TMG
About This Item
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form
liquid
reaction suitability
core: gallium
bp
92.5 °C/760 mmHg (lit.)
mp
-15.8 °C (lit.)
density
1.132 g/mL at 25 °C
SMILES string
C[Ga](C)C
InChI
1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
InChI key
XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
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General description
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
supp_hazards
Storage Class
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
wgk_germany
WGK 3
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Artículos
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
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