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Merck

496863

Sigma-Aldrich

Pentakis(dimethylamino)tantalum(V)

99.99%

Sinónimos:

PDMAT, TADMA, Ta(NMe2)5, Tantalum dimethylamide

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About This Item

Fórmula lineal:
Ta(N(CH3)2)5
Número de CAS:
Peso molecular:
401.33
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352103
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23

Nivel de calidad

Ensayo

99.99%

Formulario

solid

idoneidad de la reacción

core: tantalum
reagent type: catalyst

mp

100 °C (dec.) (lit.)

cadena SMILES

CN(C)[Ta](N(C)C)(N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5

Clave InChI

VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N

Descripción general

Atomic number of base material: 73 Tantalum

Características y beneficios

Volatile solid CVD precursor to tantalum nitride (TaN) thin films. Also yields tantalum oxide (Ta2O5) thin films when O2, H2O, NO or H2O2 is present during the deposition process. Ta2O5 thins films show promise as gate dielectric materials in the manufacture of integrated circuits.

Pictogramas

FlameCorrosion

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Eye Dam. 1 - Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Código de clase de almacenamiento

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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James E Maslar et al.
Applied spectroscopy, 74(10), 1219-1229 (2019-10-17)
A nondispersive infrared gas analyzer was demonstrated for investigating metal alkylamide precursor delivery for microelectronics vapor deposition processes. The nondispersive infrared analyzer was designed to simultaneously measure the partial pressure of pentakis(dimethylamido) tantalum, a metal precursor employed in high volume

Artículos

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