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Merck

317004

Sigma-Aldrich

Tantalum(V) fluoride

98%

Sinónimos:

Tantalum pentafluoride

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About This Item

Fórmula lineal:
TaF5
Número de CAS:
Peso molecular:
275.94
EC Number:
MDL number:
UNSPSC Code:
12352302
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

assay

98%

form

powder

reaction suitability

reagent type: catalyst
core: tantalum

density

4.74 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

F[Ta](F)(F)(F)F

InChI

1S/5FH.Ta/h5*1H;/q;;;;;+5/p-5

InChI key

YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I

General description

Tantalum(V) fluoride is a volatile inorganiccompound widely used as a precursor for atomic layer deposition, to producemetal fluoride thin films and as a catalyst in various organic transformations.

Application

Tantalum(V) fluoride can be used:
  • As a precursor for atomic layer deposition of thin films on the cathode materials of Li-ion batteries.
  • As a dopant to enhance the photochemical activity of hematite by improving charge carrier mobility and reducing recombination of photogenerated holes and electrons.
  • To enhance the photocurrent stability and photoluminescence of WO3 films (used as photoelectrode for photolysis of water).
  • As a catalyst for N-alkylation of arylamines with benzylalcohols.

pictograms

Corrosion

signalword

Danger

hcodes

Hazard Classifications

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Storage Class

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

Not applicable

flash_point_c

Not applicable

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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Applications and Advantages of Atomic Layer Deposition for Lithium-Ion Batteries Cathodes
Yury Koshtyal, et al.},
Lithium-Ion Batteries, 8, 184-184 (2022)
Influence of tantalum dopant ions (Ta5+) on the efficiency of the tungsten trioxide photoelectrode
A Enesca, et al.
Physica Status Solidi (A): Applied Research, 205, 2038-2041 (2008)
Improvement of Hematite as Photocatalyst by Doping with Tantalum
Xinsheng Zhang, et al.
The Journal of Physical Chemistry C, 118, 16842-16850 (2014)

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