257222
Trimethylaluminum
97%
Sinónimos:
TMA
About This Item
Productos recomendados
vapor pressure
69.3 mmHg ( 60 °C)
description
heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (dimer)
assay
97%
form
liquid
reaction suitability
core: aluminum
bp
125-126 °C (lit.)
127 °C/760 mmHg
20 °C/8 mmHg
56 °C/50 mmHg
mp
15 °C (lit.)
density
0.752 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
C[Al](C)C
InChI
1S/3CH3.Al/h3*1H3;
InChI key
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos
General description
Application
- As a growth initiator to synthesize self-assembled aluminum nanoparticles via atomic layer deposition.
- As a precursor to synthesize aluminum-doped ZnO thin films(AZO) for electron transport layer of perovskite solar cells. TMA enhances electrical conductivity and thermal stability of perovskite layers.
- To fabricate Al2O3-coated Si-alloy anodes for Li-ion batteries. This coating helps to suppress the volume expansion of Si and improves cell stability.
- To fabricate Al2O3-coated graphite electrode with superior anti-self-discharging behavior (260 h) with long stability (900 cycles), for Al-ion battery.
Packaging
Compatible with the following:
- Aldrich® Sure/Pac™ station for liquefied gases Z566446
- PTFE Sealing tape Z104388 or Z221880
- Straight septum-inlet adapter Z118141 with septa Z565687 or Z565695
Other Notes
Legal Information
Optional
also commonly purchased with this product
septum inlet adapter
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
supp_hazards
Storage Class
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
wgk_germany
nwg
flash_point_f
No data available
flash_point_c
No data available
ppe
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
Certificados de análisis (COA)
Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»
¿Ya tiene este producto?
Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.
Los clientes también vieron
Artículos
Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.
Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.
Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.
Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.
Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.
Póngase en contacto con el Servicio técnico