730734
Trimethylgallium
packaged for use in deposition systems
Sinónimos:
Me3Ga, TMGa, TMG
About This Item
Productos recomendados
Nivel de calidad
Formulario
liquid
idoneidad de la reacción
core: gallium
bp
92.5 °C/760 mmHg (lit.)
mp
-15.8 °C (lit.)
densidad
1.132 g/mL at 25 °C
cadena SMILES
C[Ga](C)C
InChI
1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
Clave InChI
XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
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Categorías relacionadas
Descripción general
Palabra de señalización
Danger
Frases de peligro
Consejos de prudencia
Clasificaciones de peligro
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
Riesgos supl.
Código de clase de almacenamiento
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 3
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Artículos
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
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