Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(1)

Key Documents

View All Documentation

648663

Sigma-Aldrich

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)

Sinónimos:

Diethylruthenocene

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(1)

About This Item

Fórmula lineal:
C7H9RuC7H9
Número de CAS:
32992-96-4
Peso molecular:
287.36
MDL number:
MFCD03427334
UNSPSC Code:
12352103
PubChem Substance ID:
24883596
NACRES:
NA.23

form

liquid

composition

Ru, 33.9-36.4% gravimetric

reaction suitability

core: ruthenium
reagent type: catalyst

refractive index

n20/D 1.5870 (lit.)

bp

100 °C/0.01 mmHg (lit.)

mp

6 °C (lit.)

density

1.3412 g/mL at 25 °C (lit.)

storage temp.

−20°C

SMILES string

[Ru].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3-6H,2H2,1H3;

InChI key

VLTZUJBHIUUHIK-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

Categorías relacionadas

Application

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) (Ru(EtCp)2), a metal organic is used as an atomic layer deposition precursor for Ru thin filmsand well-aligned RuO2 nanorods.

For use with

Referencia del producto
Descripción
Precios

pictograms

Exclamation mark
GHS07

signalword

Warning

Hazard Classifications

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

target_organs

Respiratory system

Storage Class

10 - Combustible liquids

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

>199.9 °F - closed cup

flash_point_c

> 93.3 °C - closed cup

ppe

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Growth and characterization of the coexistence of vertically aligned and twinned V-shaped RuO2 nanorods on nanostructural TiO2 template
Chen CA, et al.
J. Alloy Compounds, 485(1-2), 524-528 (2009)
In-situ real-time ellipsometric investigations during the atomic layer deposition of ruthenium: A process development from [(ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl) ruthenium] and molecular oxygen.
Knaut M, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 30(1), 01A151-01A151 (2012)
Thermal atomic layer deposition (ALD) of Ru films for Cu direct plating.
Choi SH, et al.
Journal of the Electrochemical Society, 158(6), D351-D356 (2011)
ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems.
Waechtler T, et al.
Microelectronic Engineering, 88(5), 684-689 (2011)

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico