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651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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250 ML
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About This Item

Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

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caducidad

1 yr (cool area away from direct sunlight)

pH

<2 (20 °C)

bp

204-304 °C (lit.)

densidad

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

temp. de almacenamiento

2-8°C

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Descripción general

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H302,H304,H314,H351,H411

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Código de clase de almacenamiento

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

204.8 °F

Punto de inflamabilidad (°C)

96 °C

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Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number
MKCR8695
MKCN0261
MKCM9918
MKCK5971
MKCK1587

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Protocolos

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Questions

1–2 of 2 Questions  

  1. For the 65,176-1 Negative Resist Remover, do we also buy H2SO4, or is that already in the 65, 176-1?

    1 answer

    1. This product does not include H2SO4.

      Helpful?

  2. Is this remover available with AZ 5214E which is an IR photo-resist (positive to negative) ?

    1 answer

    1. The photoresist remover AZ 5214E (or others options for positive and negative removal) is not available. Unfortunately, the 651761, which is also included in the Negative Photoresist kit (654892), are the only reagents offered at this time.

      Helpful?

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