Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(1)

Documentos

490407

Sigma-Aldrich

Chloropentamethyldisilane

97%

Sinónimos:

1-Chloro-1,1,2,2,2-pentamethyldisilane, Chlorodimethyl(trimethylsilyl)silane, Chloropentamethyldisilane, Pentamethylchlorodisilane

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(1)

About This Item

Fórmula lineal:
(CH3)3SiSi(CH3)2Cl
Número de CAS:
1560-28-7
Peso molecular:
166.80
EC Number:
216-330-5
MDL number:
MFCD00456692
UNSPSC Code:
12352300
PubChem Substance ID:
24872557
NACRES:
NA.23

assay

97%

form

liquid

refractive index

n20/D 1.4415 (lit.)

bp

134-136 °C (lit.)

density

0.862 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

C[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl

InChI

1S/C5H15ClSi2/c1-7(2,3)8(4,5)6/h1-5H3

InChI key

GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N

application

Chloropentamethyldisilane may be used as one of the constituents for the sythesis of silyloxyjulolidine (SiN1) as a source of silyl radicals which may be used as photoinitiators for free radical photopolymerization. It may also be used in the preparation of 2-pentamethyldisilanyloxymethyl)phenylpentamethyldisilane.

pictograms

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

signalword

Danger

hcodes

H226,H314

Hazard Classifications

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

supp_hazards

EUH014

Storage Class

3 - Flammable liquids

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

102.2 °F - closed cup

flash_point_c

39 °C - closed cup

ppe

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Silyloxyamines as sources of silyl radicals: ESR spin-trapping, laser flash photolysis investigation, and photopolymerization ability.
Versace DL, et al.
Journal of Physical Organic Chemistry, 24(4), 342-350 (2011)
Photoinduced Rearrangement Reaction of 2-(Pentamethyldisilanyloxymethyl) phenylpentamethyldisilane.
Park SK and Gong SY
Bull. Korean Chem. Soc., 31(3), 731-734 (2010)
Silyloxyamines as sources of silyl radicals: ESR spin-trapping, laser flash photolysis investigation, and photopolymerization ability.
Versace DL, et al.
Journal of Physical Organic Chemistry, 24(4), 342-350 (2011)

Artículos

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico