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蒸汽密度
3.7 (vs air)
蒸汽壓力
1.08 mmHg ( 100 °C)
描述
anti-fade reagent
化驗
≥99%
形狀
sublimed
bp
267 °C (lit.)
mp
138-143 °C (lit.)
SMILES 字串
Nc1ccc(N)cc1
InChI
1S/C6H8N2/c7-5-1-2-6(8)4-3-5/h1-4H,7-8H2
InChI 密鑰
CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N
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訊號詞
Danger
危險分類
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Irrit. 2 - Skin Sens. 1 - STOT SE 1 Oral
標靶器官
Kidney,Heart,Musculo-skeletal system
儲存類別代碼
6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects
水污染物質分類(WGK)
WGK 3
閃點(°F)
230.0 °F - closed cup
閃點(°C)
110 °C - closed cup
個人防護裝備
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P2 (EN 143) respirator cartridges
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近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
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