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Sigma-Aldrich

Yttrium sputtering target

diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.9% trace metals basis

Synonyme(s) :

Yttrium

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill) :
Y
Numéro CAS:
7440-65-5
Poids moléculaire :
88.91
Numéro CE :
231-174-8
Numéro MDL:
MFCD00011468
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
329767649
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Essai

99.9% trace metals basis

Forme

solid

Pertinence de la réaction

core: yttrium

Résistivité

57 μΩ-cm, 20°C

Diam. × épaisseur

2.00 in. × 0.25 in.

pb

3338 °C (lit.)

Pf

1522 °C (lit.)

Densité

4.469 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

[Y]

InChI

1S/Y

Clé InChI

VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N

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Application

Solid Oxide Fuel cells operating at temperatures below 800 C (also known as intermediate temperature solid oxide fuel cell, IT-SOFC) are currently the topic of much research and development owing to the high degradation rates and materials costs incurred for SOFC operating at temperatures above 900 C. Thin films of electrode and electrolyte layers is one of the ways to achieve high performances in IT-SOFC.
Yttrium sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing thin films also find applications as thermal barrier and protective coatings, example in thermoelectric devices.

Code de la classe de stockage

11 - Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

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MKCQ2815
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