추천 제품
형태
solution
농도
~2.0 M in THF
SMILES string
CN(C)P(=NC(C)(C)C)(N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C14H39N7P2/c1-14(2,3)15-22(17(4)5,18(6)7)16-23(19(8)9,20(10)11)21(12)13/h1-13H3
InChI key
CJTQESMNKMUZAO-UHFFFAOYSA-N
관련 카테고리
기타 정보
Extremely strong and hindered neutral nitrogen base; it is about 109 times more basic than DBU [pKa (DMSO) 21.45]. Stable to hydrolysis and unaffected by alkylating agents; Highly selective base; Deprotonation of phosphines
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Carc. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3
표적 기관
Respiratory system
보충제 위험성
Storage Class Code
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 3
Flash Point (°F)
1.4 °F - closed cup
Flash Point (°C)
-17 °C - closed cup
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
시험 성적서(COA)
제품의 로트/배치 번호를 입력하여 시험 성적서(COA)을 검색하십시오. 로트 및 배치 번호는 제품 라벨에 있는 ‘로트’ 또는 ‘배치’라는 용어 뒤에서 찾을 수 있습니다.
이미 열람한 고객
Liebigs Ann. Chem., 1055-1055 (1996)
Phosphorus, Sulfur, and Silicon and the Related Elements, 81, 155-155 (1993)
Angewandte Chemie (International Edition in English), 101, 1281-1281 (1989)
문서
Phosphazene base reagents are available as monomeric (P1 and BEMP), dimeric (P2), and tetrameric (P4) bases with different side chains to control their sterical hindrance.
자사의 과학자팀은 생명 과학, 재료 과학, 화학 합성, 크로마토그래피, 분석 및 기타 많은 영역을 포함한 모든 과학 분야에 경험이 있습니다..
고객지원팀으로 연락바랍니다.