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463019

Sigma-Aldrich

Silicon tetrafluoride

electronic grade, ≥99.99%

동의어(들):

Silicon(IV) fluoride

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About This Item

Linear Formula:
SiF4
CAS Number:
Molecular Weight:
104.08
EC Number:
MDL number:
UNSPSC 코드:
12352300
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

Grade

electronic grade

분석

≥99.99%

형태

liquid

반응 적합성

core: silicon

불순물

<0.5 ppm Carbon monoxide (CO)
<1 ppm Argon + oxygen (Ar + O2)
<1 ppm Carbon dioxide (CO2)
<10 ppm Methane (CH4)
<3 ppm Nitrogen (N2)
<50 ppm Hydrogen fluoride (HF)

bp

−86 °C (lit.)

mp

−90 °C (lit.)

전이 온도

critical temperature −14.2 °C

density

3.57 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

F[Si](F)(F)F

InChI

1S/F4Si/c1-5(2,3)4

InChI key

ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N

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애플리케이션

Silicon tetrafluoride is used in ion-implantation processes and as a precursor to fluorinated silica via plasma-assisted CVD. Mixtures of SiF4-SiH4-H2 have recently been used to deposit polycrystalline silicon thin films via remote plasma chemical vapor deposition (RPCVD). Such fluorinated thin films show visible photoluminescence (PL) at room temperature.

포장

Supplied in a carbon steel lecture bottle with a CGA180M/CGA110F needle valve installed.

Compatible with the following:
  • Aldrich® lecture-bottle station systems
  • Aldrich® lecture-bottle gas regulators

기타 정보

법적 정보

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

퍼지 벨브

제품 번호
설명
가격

호스 바브

제품 번호
설명
가격

픽토그램

Gas cylinderSkull and crossbonesCorrosion

신호어

Danger

유해 및 위험 성명서

Hazard Classifications

Acute Tox. 2 Inhalation - Eye Dam. 1 - Press. Gas Liquefied gas - Skin Corr. 1A

보충제 위험성

Storage Class Code

2A - Gases

WGK

WGK 3

Flash Point (°F)

Not applicable

Flash Point (°C)

Not applicable

개인 보호 장비

Faceshields, Gloves, Goggles


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Kathryn George et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 40(7), 1584-1593 (2011-01-18)
The hypervalent adducts of SiF(4), trans-[SiF(4)(R(3)PO)(2)] (R = Me, Et or Ph), cis-[SiF(4){R(2)P(O)CH(2)P(O)R(2)}] (R = Me or Ph), cis-[SiF(4)(pyNO)(2)] and trans-[SiF(4)(DMSO)(2)] have been prepared from SiF(4) and the ligands in anhydrous CH(2)Cl(2), and characterised by microanalysis, IR and VT multinuclear
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Cicala, G.
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Shou-Nan Li et al.
AIHA journal : a journal for the science of occupational and environmental health and safety, 64(3), 408-414 (2003-06-18)
A mobile extractive Fourier transform infrared (FTIR) spectrometer was successfully used to locate, identify, and quantify the "odor" sources inside the cleanroom of a semiconductor manufacturing plant. It was found that ozone (O(3)) gas with a peak concentration of 120

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