光学活性
[α]20/D -82.0°, c = 1 in THF
mp
183-195 °C
SMILES記法
C[C@H](NC(=O)c1ccccc1[C@H]2N3N([C@H](P2c4ccccc4P5[C@@H](N6N([C@H]5c7ccccc7C(=O)N[C@@H](C)c8ccccc8)C(=O)CCC6=O)c9ccccc9C(=O)N[C@@H](C)c%10ccccc%10)c%11ccccc%11C(=O)N[C@@H](C)c%12ccccc%12)C(=O)CCC3=O)c%13ccccc%13
InChI
1S/C78H72N8O8P2/c1-49(53-27-9-5-10-28-53)79-71(91)57-35-17-21-39-61(57)75-83-67(87)45-46-68(88)84(83)76(62-40-22-18-36-58(62)72(92)80-50(2)54-29-11-6-12-30-54)95(75)65-43-25-26-44-66(65)96-77(63-41-23-19-37-59(63)73(93)81-51(3)55-31-13-7-14-32-55)85-69(89)47-48-70(90)86(85)78(96)64-42-24-20-38-60(64)74(94)82-52(4)56-33-15-8-16-34-56/h5-44,49-52,75-78H,45-48H2,1-4H3,(H,79,91)(H,80,92)(H,81,93)(H,82,94)/t49-,50-,51-,52-,75+,76+,77+,78?,96?/m0/s1
InChI Key
NTWCWWNZWYJTEP-GEDBLHTESA-N
アプリケーション
- ジエンのヒドロホルミル化を介する、α,β-不飽和アルデヒドのエナンチオ選択的合成
- ジアルキルアクリルアミドの位置選択的かつエナンチオ選択的なヒドロホルミル化
- 酢酸ビニルの不斉ヒドロホルミル化
- アルケンの位置選択的かつ立体選択的なヒドロホルミル化
法的情報
保管分類コード
11 - Combustible Solids
WGK
WGK 3
引火点(°F)
Not applicable
引火点(℃)
Not applicable
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