773972
Yttrium sputtering target
diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.9% trace metals basis
Sinónimos:
Yttrium
About This Item
Productos recomendados
Nivel de calidad
Ensayo
99.9% trace metals basis
Formulario
solid
idoneidad de la reacción
core: yttrium
resistividad
57 μΩ-cm, 20°C
diám. × grosor
2.00 in. × 0.25 in.
bp
3338 °C (lit.)
mp
1522 °C (lit.)
densidad
4.469 g/mL at 25 °C (lit.)
cadena SMILES
[Y]
InChI
1S/Y
Clave InChI
VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N
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Aplicación
Yttrium sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing thin films also find applications as thermal barrier and protective coatings, example in thermoelectric devices.
Código de clase de almacenamiento
11 - Combustible Solids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 3
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
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Artículos
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.
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