730734
Trimethylgallium
packaged for use in deposition systems
Sinónimos:
Me3Ga, TMGa, TMG
About This Item
Productos recomendados
Quality Level
form
liquid
reaction suitability
core: gallium
bp
92.5 °C/760 mmHg (lit.)
mp
-15.8 °C (lit.)
density
1.132 g/mL at 25 °C
SMILES string
C[Ga](C)C
InChI
1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
InChI key
XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos
Categorías relacionadas
General description
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
supp_hazards
Storage Class
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
wgk_germany
WGK 3
Certificados de análisis (COA)
Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»
¿Ya tiene este producto?
Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.
Artículos
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.
Póngase en contacto con el Servicio técnico