Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(3)

Key Documents

342831

Sigma-Aldrich

Silicon dioxide

fused (granular), 4-20 mesh, 99.9% trace metals basis

Synonyme(s) :

Cristobalite, Quartz, Sand, Silica

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
SiO2
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
60.08
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352303
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

Pureté

99.9% trace metals basis

Forme

fused (granular)

Indice de réfraction

n20/D 1.544 (lit.)

Taille des particules

4-20 mesh

Pf

1610 °C (lit.)

Densité

2.6 g/mL at 25 °C (lit.)

Application(s)

battery manufacturing

Chaîne SMILES 

O=[Si]=O

InChI

1S/O2Si/c1-3-2

Clé InChI

VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Application

SiO2 is majorly used as a substrate material with excellent thermo-mechanical properties, which can be used in a variety of applications which include: vapor deposition, phase deposition, atomic force microscopy probes (AFM), spin coating, electronic based devices.

Code de la classe de stockage

13 - Non Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

nwg

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves


Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number

Vous ne trouvez pas la bonne version ?

Si vous avez besoin d'une version particulière, vous pouvez rechercher un certificat spécifique par le numéro de lot.

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

The effect of calcination temperature on the surface microstructure and photocatalytic activity of TiO2 thin films prepared by liquid phase deposition.
Yu J, et al.
The Journal of Physical Chemistry B, 107(50), 13871-13879 (2003)
Exciton diffusion measurements in poly (3-hexylthiophene).
Shaw PE, et al.
Advanced Materials, 20(18), 3516-3520 (2008)
Electrical and optical properties of ZnO transparent conducting films by the sol-gel method.
Lee J, et al.
Journal of Crystal Growth, 247(1-2), 119-125 (2003)
Oxygen-aided synthesis of polycrystalline graphene on silicon dioxide substrates.
Chen J, et al.
Journal of the American Chemical Society, 133(44), 17548-17551 (2011)
Measurement of the adhesion force between carbon nanotubes and a silicon dioxide substrate.
Whittaker JD, et al.
Nano Letters, 6(5), 953-957 (2006)

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique