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317004

Sigma-Aldrich

Tantalum(V) fluoride

98%

Synonyme(s) :

Tantalum pentafluoride

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About This Item

Formule linéaire :
TaF5
Numéro CAS:
7783-71-3
Poids moléculaire :
275.94
Numéro CE :
232-022-3
Numéro MDL:
MFCD00042542
Code UNSPSC :
12352302
ID de substance PubChem :
24859058
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Pureté

98%

Forme

powder

Pertinence de la réaction

reagent type: catalyst
core: tantalum

Densité

4.74 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

F[Ta](F)(F)(F)F

InChI

1S/5FH.Ta/h5*1H;/q;;;;;+5/p-5

Clé InChI

YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I

Description générale

Tantalum(V) fluoride is a volatile inorganiccompound widely used as a precursor for atomic layer deposition, to producemetal fluoride thin films and as a catalyst in various organic transformations.

Application

Tantalum(V) fluoride can be used:
  • As a precursor for atomic layer deposition of thin films on the cathode materials of Li-ion batteries.
  • As a dopant to enhance the photochemical activity of hematite by improving charge carrier mobility and reducing recombination of photogenerated holes and electrons.
  • To enhance the photocurrent stability and photoluminescence of WO3 films (used as photoelectrode for photolysis of water).
  • As a catalyst for N-alkylation of arylamines with benzylalcohols.

Pictogrammes

Corrosion
GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H314

Classification des risques

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
MKCS8715
MKCR8985
MKCQ2164
MKCJ2608
MKCH7994

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Improvement of Hematite as Photocatalyst by Doping with Tantalum
Xinsheng Zhang, et al.
The Journal of Physical Chemistry C, 118, 16842-16850 (2014)
Applications and Advantages of Atomic Layer Deposition for Lithium-Ion Batteries Cathodes
Yury Koshtyal, et al.},
Lithium-Ion Batteries, 8, 184-184 (2022)
Influence of tantalum dopant ions (Ta5+) on the efficiency of the tungsten trioxide photoelectrode
A Enesca, et al.
Physica Status Solidi (A): Applied Research, 205, 2038-2041 (2008)

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