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Supelco

Tetrabutylammonium bis-trifluoromethanesulfonimidate

for electronic purposes, ≥99.0%

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About This Item

Formule linéaire :
(CH3CH2CH2CH2)4N[N(SO2CF3)2
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
522.61
Numéro Beilstein :
8247973
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
26111700
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NB.61

Qualité

for electronic purposes

Niveau de qualité

Pureté

≥99.0% (qNMR)
≥99.0%

Forme

crystals

Pf

90-95 °C

Chaîne SMILES 

FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC

InChI

1S/C16H36N.C2F6NO4S2/c1-5-9-13-17(14-10-6-2,15-11-7-3)16-12-8-4;3-1(4,5)14(10,11)9-15(12,13)2(6,7)8/h5-16H2,1-4H3;/q+1;-1

Clé InChI

CFAPFDTWIGBCQK-UHFFFAOYSA-N

Description générale

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Application


  • The cohesive properties and pyrolysis mechanism of an aprotic ionic liquid tetrabutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide.: This study investigates the cohesive properties and thermal decomposition mechanism of tetrabutylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, providing insights into its stability and potential applications in analytical and materials chemistry (Liu et al., 2023).

Autres remarques

Novel type of electrolyte, used e.g. in electrical double layer capacitors

Pictogrammes

Corrosion

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

Classification des risques

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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M. Ue et al.
Journal of the Electrochemical Society, 141, 3366-3366 (1994)
Daniel Hirshberg et al.
ACS applied materials & interfaces, 10(13), 10860-10869 (2018-03-08)
Using UV-vis spectroscopy in conjunction with various electrochemical techniques, we have developed a new effective operando methodology for investigating the oxygen reduction reactions (ORRs) and their mechanisms in nonaqueous solutions. We can follow the in situ formation and presence of

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