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Sigma-Aldrich

Trifluoromethanesulfonimide

≥95.0% (19F-NMR)

Synonyme(s) :

Bis(trifluoromethanesulfonyl)amine

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About This Item

Formule linéaire :
(CF3SO2)2NH
Poids moléculaire :
281.15
Numéro Beilstein :
4754101
Numéro MDL:
MFCD00214154
Code UNSPSC :
12352100
ID de substance PubChem :
24870201
Nomenclature NACRES :
NA.22

Niveau de qualité

200

Pureté

≥95.0% (19F-NMR)

Forme

solid

Point d'ébullition

90-91 °C (lit.)

Pf

46-57 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F

InChI

1S/C2HF6NO4S2/c3-1(4,5)14(10,11)9-15(12,13)2(6,7)8/h9H

Clé InChI

ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N

Catégories apparentées

Description générale

Trifluoromethanesulfonimide is a promising Bronsted acid catalyst and is superior to scandium triflate in catalytic action.

Application

Trifluoromethanesulfonimide may be used as a catalyst for the preparation of 1-substituted-1H-1,2,3,4-tetrazoles.

Pictogrammes

Skull and crossbonesCorrosion
GHS06,GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H301,H318,H412

Classification des risques

Acute Tox. 3 Oral - Aquatic Chronic 3 - Eye Dam. 1

Code de la classe de stockage

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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Trifluoromethanesulfonimide catalysed synthesis of 1-substituted-1H-1, 2, 3, 4-tetrazoles using glycerol as green solvent at room temperature.
Wang H, et al.
J. Chem. Res. (M), 40(9), 570-572 (2016)
Practical Synthesis of (?)-a-Tocopherol. Trifluoromethanesulfonimide as an Extremely Active Br?nsted Acid Catalyst for the Condensation of Trimethylhydroquinone with Isophytol.
Ishihara K, et al.
Synlett, 11, 1045-1046 (1996)
Youngbum Kim et al.
Nanoscale, 10(18), 8851-8858 (2018-05-02)
The exciton-dominated light emission of two-dimensional (2D) semiconductors is determined largely by the doping state and the formation of defects. Extensive studies have shown that chemical treatment critically modifies the doping state and defect state of chemical vapor deposition (CVD)-grown

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