HF100
Hall Device Chip
HF100
About This Item
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Materiales
gold/chromium electrode (Au/Cr)
silica coating (SiO2)
descripción
die layer thickness 300 nm SiO2
electrode layer thickness 60 nm gold
Características
optimized for hall
envase
pkg of 16 non-diced devices
fabricante / nombre comercial
HF100
die thickness
525 μm , silicon
electrodo tamaño
10 nm , chrome
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