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Merck

GF33964566

Nickel

foil, not light tested, 100x100mm, thickness 0.007mm, 99.95%

Sinónimos:

Nickel, NI000170

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
Ni
Número de CAS:
Peso molecular:
58.69
Número MDL:
Código UNSPSC:
12141729
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23

Análisis

99.95%

formulario

foil

fabricante / nombre comercial

Goodfellow 339-645-66

resistividad

6.97 μΩ-cm, 20°C

tamaño × grosor

100x100 mm × 0.007 mm

bp

2732 °C (lit.)

mp

1453 °C (lit.)

densidad

8.9 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

[Ni]

InChI

1S/Ni

Clave InChI

PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N

Descripción general

For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.

Información legal

Product of Goodfellow

Pictogramas

Health hazardExclamation mark

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Carc. 2 - Skin Sens. 1 - STOT RE 1

Código de clase de almacenamiento

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 1

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable


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L A van Loon et al.
Journal of oral pathology, 17(3), 129-137 (1988-03-01)
An in vivo comparison was made between the contact allergic stomatitis-inducing capacity of nickel, nickel-containing dental alloys and a non-corrosive precious metal. Fifteen patients with a positive allergic skin reaction to nickel were divided into 3 groups (A, B and
H T Tien et al.
Photochemistry and photobiology, 49(5), 527-530 (1989-05-01)
Visible light of the solar spectrum is directly converted to stored chemical energy of hydrogen from artificial sea water in a novel electrochemical photovoltaic cell. The principal element of the cell, modeled after the photosynthetic thylakoid membrane, is a semiconductor
Gareth E Haslam et al.
Physical chemistry chemical physics : PCCP, 13(28), 12968-12974 (2011-06-23)
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Y Kim et al.
Applied physics letters, 98(26), 263106-2631063 (2011-07-30)
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G E van Dorssen et al.
Journal of X-ray science and technology, 3(2), 109-117 (1992-01-01)
The structure of Ni-C multilayer and single nickel layer samples has been analyzed before and after annealing, using two techniques: fluorescence EXAFS (F1EXAFS) at the Ni-K. edge and CuKα reflection. Annealing at a temperature of 450°C resulted in a change

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