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Sigma-Aldrich

Aldrich® Negative Photoresist Kit I

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About This Item

Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

temp. de almacenamiento

2-8°C

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Descripción general

Aldrich® Negative Photoresist Kit I consists of materials for photolithography. The photoresist can be spin coated on the glass substrate for the formation of electrode arrays. The kit also provides masking and patterning on the glass surface.

Aplicación

Aldrich® Negative Photoresist Kit I has been used in the fabrication of microelectrodes by photolithography. It can also be used to fabricate the droplet-based microfluidic device, microfluidic chips, glass optical waveguides, and integrated grating couplers.

Información legal

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

Los componentes del kit también están disponibles por separado

Referencia del producto
Descripción
SDS
  • 651761Negative resist remover I 250 mLSDS
  • 651788Negative resist developer I 250 mLSDS
  • 651796Negative photoresist I 100 mLSDS
  • 651974Negative resist thinner I 100 mLSDS

Palabra de señalización

Danger

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Repr. 1B - Skin Corr. 1 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

Órganos de actuación

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Código de clase de almacenamiento

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Certificados de análisis (COA)

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Protocolos

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

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