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Sigma-Aldrich

Peróxido de hidrógeno solution

semiconductor grade MOS PURANAL™ (Honeywell 17937), ≥30%

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
H2O2
Número de CAS:
7722-84-1
Peso molecular:
34.01
Beilstein:
3587191
Número MDL:
MFCD00011333
Código UNSPSC:
12352304
ID de la sustancia en PubChem:
57649964

grado

semiconductor grade MOS PURANAL™ (Honeywell 17937)

presión de vapor

23.3 mmHg ( 30 °C)

Análisis

≥30%

CofA

specification on request

caducidad

~2 yr

idoneidad de la reacción

reagent type: oxidant

concentración

25-35%

densidad

1.110 g/cm3

temp. de almacenamiento

2-8°C

cadena SMILES

OO

InChI

1S/H2O2/c1-2/h1-2H

Clave InChI

MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N

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Descripción general

Hydrogen peroxide is a strong oxidizer. It may be produced industrially by anthraquinone oxidation. it is used in semiconductor industry essentially for cleaning silicon wafers, removal of photoresists and to etch metallic copper on printed circuit boards. Ultrapurification of hydrogen peroxide by reverse osmosis has been reported in detail.

Aplicación

Semiconductor grade hydrogen peroxide was used to etch TiN 2 and GaAs structures.

Información legal

PURANAL is a trademark of Honeywell Specialty Chemicals Seelze GmbH

Pictogramas

Corrosion
GHS05

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H318,H412

Clasificaciones de peligro

Aquatic Chronic 3 - Eye Dam. 1

Código de clase de almacenamiento

5.1B - Oxidizing hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 1

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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