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Sigma-Aldrich

Dichlorodiisopropylsilane

≥97.0% (GC)

Sinónimos:

Diisopropyldichlorosilane

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
C6H14Cl2Si
Número de CAS:
7751-38-4
Peso molecular:
185.17
Beilstein:
1736244
Número MDL:
MFCD00054895
Código UNSPSC:
12352001
ID de la sustancia en PubChem:
329755681
NACRES:
NA.22

Análisis

≥97.0% (GC)

formulario

liquid

índice de refracción

n20/D 1.444

bp

66 °C/27 mmHg (lit.)

densidad

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

cadena SMILES

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

Clave InChI

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

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Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"

Pictogramas

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H226,H314

Clasificaciones de peligro

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

109.4 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

43 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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