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Sigma-Aldrich

Tantalum(V) fluoride

98%

Sinónimos:

Tantalum pentafluoride

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About This Item

Fórmula lineal:
TaF5
Número de CAS:
7783-71-3
Peso molecular:
275.94
Número CE:
232-022-3
Número MDL:
MFCD00042542
Código UNSPSC:
12352302
ID de la sustancia en PubChem:
24859058
NACRES:
NA.23

Análisis

98%

formulario

powder

idoneidad de la reacción

reagent type: catalyst
core: tantalum

densidad

4.74 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

F[Ta](F)(F)(F)F

InChI

1S/5FH.Ta/h5*1H;/q;;;;;+5/p-5

Clave InChI

YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I

Descripción general

Tantalum(V) fluoride is a volatile inorganiccompound widely used as a precursor for atomic layer deposition, to producemetal fluoride thin films and as a catalyst in various organic transformations.

Aplicación

Tantalum(V) fluoride can be used:
  • As a precursor for atomic layer deposition of thin films on the cathode materials of Li-ion batteries.
  • As a dopant to enhance the photochemical activity of hematite by improving charge carrier mobility and reducing recombination of photogenerated holes and electrons.
  • To enhance the photocurrent stability and photoluminescence of WO3 films (used as photoelectrode for photolysis of water).
  • As a catalyst for N-alkylation of arylamines with benzylalcohols.

Pictogramas

Corrosion
GHS05

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H314

Clasificaciones de peligro

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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Improvement of Hematite as Photocatalyst by Doping with Tantalum
Xinsheng Zhang, et al.
The Journal of Physical Chemistry C, 118, 16842-16850 (2014)
Influence of tantalum dopant ions (Ta5+) on the efficiency of the tungsten trioxide photoelectrode
A Enesca, et al.
Physica Status Solidi (A): Applied Research, 205, 2038-2041 (2008)
Applications and Advantages of Atomic Layer Deposition for Lithium-Ion Batteries Cathodes
Yury Koshtyal, et al.},
Lithium-Ion Batteries, 8, 184-184 (2022)

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