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Merck

651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

UNSPSC Code:
12352300
NACRES:
NA.23

shelf life

1 yr (cool area away from direct sunlight)

Quality Level

pH

<2 (20 °C)

bp

204-304 °C (lit.)

density

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

storage temp.

2-8°C

General description

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

signalword

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Storage Class

8A - Combustible corrosive hazardous materials

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

204.8 °F

flash_point_c

96 °C


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Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

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