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Sigma-Aldrich

Dichloromethylvinylsilane

97%

Sinónimos:

Methylvinyldichlorosilane

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About This Item

Fórmula lineal:
H2C=CHSi(CH3)Cl2
Número de CAS:
124-70-9
Peso molecular:
141.07
Beilstein:
1740822
Número CE:
204-710-3
Número MDL:
MFCD00000492
Código UNSPSC:
12352100
ID de la sustancia en PubChem:
24846683
NACRES:
NA.22
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densidad de vapor

>1 (vs air)

Nivel de calidad

100

Ensayo

97%

índice de refracción

n20/D 1.430 (lit.)

bp

92 °C (lit.)

densidad

1.08 g/mL at 25 °C (lit.)

temp. de almacenamiento

2-8°C

cadena SMILES

C[Si](Cl)(Cl)C=C

InChI

1S/C3H6Cl2Si/c1-3-6(2,4)5/h3H,1H2,2H3

Clave InChI

YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N

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Descripción general

Dichloromethylvinylsilane reacts with dimethylsulphide borane to form organosilylborane, which further gets ammonolysized to form the polymer of the SiBCN[1].

Aplicación

Dichloromethylvinylsilane was used as single molecular precursor for the deposition of β-SiC thin films and β -SiC nanowires by metalorganic chemical vapor deposition on bare Si 100 and Ni-coated Si 100 substrates[2]. Dichloromethylvinylsilane was used in the synthesis and characterization of Tris(1-(dichloro(methyl)silyl)ethyl)borane,monomer[3].

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H225,H302,H314,H331

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B

Riesgos supl.

EUH014,EUH071

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 1

Punto de inflamabilidad (°F)

38.1 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

3.4 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number
MKCX3732
MKCS5222
MKCL1323
MKCK4643
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Synthesis and Structure Characterization of Amorphous SiBCN Ceramic Precursors.
Yajing L and Yue Z.
Rare Metals Materials and Engineering, 40, 234-237 (2011)
Influence of the Precursor Cross-Linking Route on the Thermal Stability of Si- B- C- O Ceramics.
Ischenko V, et al.
Chemistry of Materials, 20(22), 7148-7156 (2008)
Growth of β-SiC nanowires and thin films by metalorganic chemical vapor deposition using dichloromethylvinylsilane.
Kang B-C, et al.
J. Vac. Sci. Technol. B, 23(4), 1722-1725 (2005)
H Yamakita et al.
Radioisotopes, 33(8), 513-518 (1984-08-01)
Poly(methylvinylsiloxane)-bonded silica gel was synthesized by condensation reaction between silica gel and the hydrolysis product of methylvinyldichlorosilane. Graft polymerization of styrene or indene onto poly(methylvinylsiloxane)-bonded silica gel was carried out by gamma-ray irradiation and compared with that onto silica gel.

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