Précurseurs de dépôt en solution et en phase vapeur
Le dépôt par voie chimique en solution et le dépôt par voie chimique en phase vapeur sont deux techniques qui permettent de former efficacement des films minces et des revêtements avancés de précision. Le dépôt en solution, aussi appelé procédé sol-gel, est une méthode prisée servant à préparer un vaste éventail de matériaux composites hybrides et inorganiques à partir de précurseurs en solution. Ce procédé génère une suspension colloïdale appelée "sol", qui est convertie en un gel, qui à son tour se transforme en solide. Le dépôt en phase vapeur, quant à lui, utilise une multitude de techniques pour convertir et employer des précurseurs ou des substances cibles en phase gazeuse et former des films sur des substrats. Notre sélection de produits destinés aux techniques de dépôt vous permet d'ajuster précisément les propriétés des films minces et de leurs revêtements. Découvrez notre large palette de précurseurs chimiques fiables et de grande qualité pour le dépôt de film mince, et trouvez ceux qui sont adaptés à la méthode que vous avez sélectionnée et à votre application.
Pour en savoir plus
Précurseurs de dépôt en solution
Nous proposons un choix varié de précurseurs dédiés au dépôt en solution. Ils sont disponibles avec 55 métaux de base différents et les fonctionnalités acétate, acétylacétonate, tert-butoxyde, isopropoxyde, phénoxyde, éthoxyde, tri-sec-butoxyde, méthoxyde, 2-éthylhexanoate, et diverses autres fonctionnalités. Ces produits sont disponibles en divers degrés de pureté de 90 % à 99,999 %, en diverses concentrations assorties dans certains solvants, et sous forme de divers hydrates spécifiques, pour vous aider à utiliser la chimie particulière que vous avez choisie.
Précurseurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) / dépôt de couches atomiques (ALD)
Nous proposons des précurseurs métalliques, métallo-organiques et organométalliques volatils de grande qualité pour le CVD (chemical vapour deposition, ou dépôt chimique en phase vapeur) et l'ALD (atomic layer deposition, ou dépôt de couches atomiques). Pour plus de commodité et de sécurité, les précurseurs sont préconditionnés dans des cylindres en acier et destinés à être utilisés avec tout un assortiment de systèmes de dépôt.
Matériaux de dépôt physique en phase vapeur
Le dépôt physique en phase vapeur (PVD pour physical vapour deposition) utilise une matière vaporisée à partir d'un matériau source solide pour déposer des films minces sur un substrat. Nous proposons des cibles de pulvérisation, des granulés, des feuilles métalliques et des blocs pour évaporation destinés à diverses applications de PVD, notamment les dispositifs micro-électroniques, les électrodes de batterie, les barrières de diffusion et les revêtements optiques.
Ressources produits apparentées
- Deposition Grade Silanes for Sol-Gel Processes
Deposition Grade Silanes, fully characterized by chemical analysis and nuclear magnetic resonance (NMR) with greater than 98% purity, for Sol-Gel Processes.
- Materials for Thin Film Solid Oxide Fuel Cells (TF-SOFCs)
This technical spotlight focuses on the thin film solid oxide fuel cells (TF-SOFC). TF-SOFCs refer to solid oxide fuel cells with electrolyte thin films. This review highlights technical advantages of TF-SOFC and introduces deposition methods of electrolyte thin films to fabricate TF-SOFC.
- Boron Nitride Nanotubes: Properties, Synthesis and Applications
Boron nitride nanotubes (BNNT) are close structural analogs of carbon nanotubes (CNT), which are high aspect ratio nanotubular material, where carbon atoms are alternately substituted by nitrogen and boron atoms.
- CoMoCAT® Single-wall Carbon Nanotubes
The CoMoCAT® method of single-walled carbon nanotube (SWNT) synthesis yields high purity SWNTs with specific chiralities and narrow distributions of tube diameters.
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