Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Documents

579211

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)

electronic grade, ≥99.99% trace metals basis

Synonyme(s) :

TDMAZ, Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV)

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
[(CH3)2N]4Zr
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
267.53
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Qualité

electronic grade

Pureté

≥99.99% trace metals basis

Forme

solid

Pertinence de la réaction

core: zirconium

Pf

57-60 °C (lit.)

Température de stockage

2-8°C

Chaîne SMILES 

CN(C)[Zr](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Zr/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Clé InChI

DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Application

Tetrakis(dimethylamido) zirconium (IV) may be used as a precursor for atomic layer deposition of zirconium which find applications ranging from gas sensors to high-k dielectrics in microelectronics.

Pictogrammes

FlameExclamation mark

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

Classification des risques

Eye Irrit. 2 - Flam. Sol. 1 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3 - Water-react 2

Organes cibles

Respiratory system

Risques supp

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

No data available

Point d'éclair (°C)

No data available

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Atomic layer deposition of ZrO2 and HfO2 nanotubes by template replication
Gu D, et al.
Electrochemical and Solid-State Letters, 12.4, K25-K28 (2009)
Surface morphology and crystallinity control in the atomic layer deposition (ALD) of hafnium and zirconium oxide thin films.
Hausmann DM & Gordon RG
Journal of Crystal Growth, 249.1, 251-261 (2003)

Articles

Learn about the different low temperature direct alcohol fuel cells based on nanostructured material catalysts and anion exchange membrane fuel cells.

Learn about the different low temperature direct alcohol fuel cells based on nanostructured material catalysts and anion exchange membrane fuel cells.

This article describes the use and advantages of polyoxometalate-based redox-flow batteries as electrochemical energy storage systems over Li-ion batteries.

Thin film solid oxide fuel cells offer technical advantages; review of TF-SOFC deposition methods for electrolyte thin films.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique